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趕快畢業(yè)吧木蟲 (著名寫手)
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[求助]
為什么磁控濺射氧化鋁不起輝?急求! 已有2人參與
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如題，用的是JCP-200高真空磁控濺射鍍膜機，初始真空度5Pa以下，本底真空度5e-4Pa左右，功率100W，Ar氛圍氣壓1Pa。為什么靶材是氧化鋁的時候不起輝呢？試過將功率調(diào)高，或者增加氣體流量，可是還是不能起輝。偶爾有可以起輝的時候，大約濺射4-5次能夠成功一次。 靶材是Ti或者Au的時候就每次都能起輝。 急求各位大神指教，感激不盡。 |
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7樓2017-03-28 13:34:52
2樓2015-03-25 18:59:45
cord 
鐵桿木蟲 (著名寫手)
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- 專業(yè): 半導體晶體與薄膜材料
3樓2015-03-26 00:44:29
1142211017
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4樓2015-03-26 08:46:38
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